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PECVD

產品簡介

等離子化學氣相沉積-PECVD,為了使化學反應能在較低的溫度下進行,利用了等離子體的活性來促進反應,因而這種CVD稱為等離子體增強化學氣相沉積法。它是由500W射頻電源、1200℃單溫區管式爐、三通道質量流量混氣系統和真空系統組成。此款設備用于生長納米線、石墨烯或SIC薄膜等

更新時間:2026-09-04
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產品地址:合肥市
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品牌助研儀器產地類別國產
應用領域環保,生物產業,能源,綜合加熱元件北京首鋼HRE

等離子化學氣相沉積-PECVD

為了使化學反應能在較低的溫度下進行,利用了等離子體的活性來促進反應,因而這種CVD稱為等離子體增強化學氣相沉積法。它是由500W射頻電源、1200℃單溫區管式爐、三通道質量流量混氣系統和真空系統組成。此款設備用于生長納米線、石墨烯或SIC薄膜等

 


 

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